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長沙鑫康新材料有限公司 蒸發材料
蒸發材料

蒸發材料

蒸發顆粒和片：金屬膜具有反射率高、截止帶寬、中性好以及偏振效應小等優點，因此他們對于設計一些特殊應用的膜系具有重要的作用。我們為濺射和蒸發鍍膜提供各種金屬薄膜材料，我們的材料可以滿足您高標準高質量的薄膜需求，無論您是用于科研開發還是大規模生產。以下表格為我們的常規產品，如有任何需求，歡迎與我們聯系。

蒸發錐臺和坩堝：我們生產許多薄膜沉積設備配件，包括錐臺和坩堝及各種規格尺寸的蒸發舟及電子槍燈絲，這些高質量的材料用于蒸發鍍膜行業。得益于合理的庫存，我們可以保證及時的交貨期限。此外，我們所有的產品都是在裝箱前進行清洗和真空包裝，這樣您收到貨后可以立即使用。



 
蒸發材料 列表
鎳（Ni）顆粒

鎳（Ni）顆粒

化學式：
Ni
規格：
Φ3* 3/Φ6* 6 mm
熔點：
1455 ℃
密度：
8.902 g/cm3
蒸發源：
B
純度：
4N、4N5、5N
鈷（Co）顆粒

鈷（Co）顆粒

化學式：
Co
規格：
Φ3*3/Φ6*6 mm
熔點：
1495 ℃
密度：
8.89 g/cm3
蒸發源：
B
純度：
3N5
銅（Cu）顆粒

銅（Cu）顆粒

化學式：
Cu
規格：
Φ3*3/Φ6*6 mm
熔點：
1084 ℃
密度：
8.9 g/cm3
蒸發源：
B
純度：
4N、5N
鐵（Fe）顆粒

鐵（Fe）顆粒

化學式：
Fe
規格：
3-20 mm
熔點：
1535 ℃
密度：
7.874 g/cm3
蒸發源：
B
純度：
3N、4N
鋁（Al）顆粒

鋁（Al）顆粒

化學式：
Al
規格：
Φ3*3/Φ6*6 mm
熔點：
660 ℃
密度：
2.7 g/cm3
蒸發源：
B
純度：
4N、5N
鈦（Ti）顆粒

鈦（Ti）顆粒

化學式：
Ti
規格：
Φ3*3/Φ6*6mm mm
熔點：
1668 ℃
密度：
4.54 g/cm3
蒸發源：
B
純度：
4N、4N5、5N
錫（Sn）顆粒

錫（Sn）顆粒

化學式：
Sn
規格：
1-10 mm
熔點：
℃
密度：
7.28 g/cm3
蒸發源：
B
純度：
4N
鉻（Cr）顆粒

鉻（Cr）顆粒

化學式：
Cr
規格：
mm
熔點：
1907 ℃
密度：
7.23 g/cm3
蒸發源：
B
純度：
2N5、3N5
釩（V）顆粒

釩（V）顆粒

化學式：
V
規格：
1-10 mm
熔點：
1890 ℃
密度：
6.11 g/cm3
蒸發源：
B
純度：
3N5
鍺（Ge）顆粒

鍺（Ge）顆粒

化學式：
Ge
規格：
1-10 mm
熔點：
938 ℃
密度：
5.5 g/cm3
蒸發源：
B
純度：
5N
鉿（Hf）顆粒

鉿（Hf）顆粒

化學式：
Hf
規格：
Φ2*5 mm
熔點：
2227 ℃
密度：
13.31 g/cm3
蒸發源：
B
純度：
3N
鋯（Zr）顆粒

鋯（Zr）顆粒

化學式：
Zr
規格：
2*5 mm
熔點：
1852 ℃
密度：
6.508 g/cm3
蒸發源：
B
純度：
3N5
鉭（Ta）顆粒

鉭（Ta）顆粒

化學式：
Ta
規格：
Φ3*3/Φ6*6 mm
熔點：
3017 ℃
密度：
10.9 g/cm3
蒸發源：
B
純度：
3N5
鈮（Nb）顆粒

鈮（Nb）顆粒

化學式：
Nb
規格：
Φ3*3/Φ6*6 mm
熔點：
2477 ℃
密度：
10.87 g/cm3
蒸發源：
B
純度：
3N5
金（Au）顆粒

金（Au）顆粒

化學式：
Au
規格：
Φ3*6 mm
熔點：
1064 ℃
密度：
19.3 g/cm3
蒸發源：
B
純度：
4N、5N
銀（Ag）顆粒

銀（Ag）顆粒

化學式：
Ag
規格：
Φ3*3 mm
熔點：
962 ℃
密度：
10.49g/cm3 g/cm3
蒸發源：
B
純度：
4N
硅（Si）顆粒

硅（Si）顆粒

化學式：
Si
規格：
1-3 mm
熔點：
1410 ℃
密度：
g/cm3
蒸發源：
B
純度：
硼（B）顆粒

硼（B）顆粒

化學式：
B
規格：
3-8 mm
熔點：
2300 ℃
密度：
2.34 g/cm3
蒸發源：
B
純度：
2N5
石墨（C）顆粒

石墨（C）顆粒

化學式：
C
規格：
1-3 mm
熔點：
3850 ℃
密度：
3.51 g/cm3
蒸發源：
B
純度：
鎂（Mg）顆粒

鎂（Mg）顆粒

化學式：
Mg
規格：
mm
熔點：
℃
密度：
g/cm3
蒸發源：
純度：
4N
二氧化硅（SiO?）顆粒

二氧化硅（SiO?）顆粒

化學式：
SiO?
規格：
1-2/1-3/φ2*2/φ3*3 mm
熔點：
1700 ℃
蒸發源：
E
折射率：
1.46
透明波段：
200-9000nm
用途：
隔離膜
五氧化二鈮（Nb?O?）顆粒

五氧化二鈮（Nb?O?）顆粒

化學式：
Nb?O?
規格：
1-2/1-3 mm
熔點：
1530 ℃
蒸發源：
E
折射率：
2.3
透明波段：
350-9000nm
用途：
增透膜，干涉濾光片等
五氧化二鉭（Ta?O?）顆粒

五氧化二鉭（Ta?O?）顆粒

化學式：
Ta?O?
規格：
1-3/Φ90*12t mm
熔點：
1800 ℃
蒸發源：
RE,RS
折射率：
2.1
透明波段：
350-9000nm
用途：
增透膜，干涉濾光片等
二氧化鋯（ZrO?）顆粒

二氧化鋯（ZrO?）顆粒

化學式：
ZrO?
規格：
φ18*10t/φ18*7t mm
熔點：
2715 ℃
蒸發源：
E
折射率：
2.05
透明波段：
250-9000nm
用途：
增透膜,多層膜,裝飾膜等
二氧化鈦（TiO?）顆粒

二氧化鈦（TiO?）顆粒

化學式：
TiO?
規格：
1-2/1-3 mm
熔點：
1850±20 ℃
蒸發源：
RE,RS
折射率：
2.3
透明波段：
360-9000nm
用途：
增透膜,激光多層膜,?分光器,熱反射鏡等
二氧化鉿（HfO?）顆粒

二氧化鉿（HfO?）顆粒

化學式：
HfO?
規格：
1-3/1-5 mm
熔點：
2812 ℃
蒸發源：
E,RS
折射率：
2.15
透明波段：
200-9000nm
用途：
復合膜等
五氧化三鈦（Ti?O?）顆粒

五氧化三鈦（Ti?O?）顆粒

化學式：
Ti?O?
規格：
1-3 mm
熔點：
1850 ℃
蒸發源：
RE,RS
折射率：
.3
透明波段：
400-12000nm
用途：
增透膜，濾光片等
三氧化二鋁（Al2O3） 顆粒

三氧化二鋁（Al2O3） 顆粒

化學式：
Al2O3
規格：
1-3 mm
熔點：
2020 ℃
蒸發源：
E,B（W)
折射率：
1.54
透明波段：
170-9000nm
用途：
三氧化鎢（WO?）顆粒

三氧化鎢（WO?）顆粒

化學式：
WO?
規格：
1-3 mm
熔點：
1473 ℃
蒸發源：
E,B（W)
折射率：
1.7
透明波段：
360-10000nm
用途：
保護膜，功能膜等
二氧化鈰（CeO2）顆粒

二氧化鈰（CeO2）顆粒

化學式：
CeO2
規格：
1-5 mm
熔點：
2727 ℃
蒸發源：
E,B（W)
折射率：
2.2
透明波段：
400-12000nm
用途：
增透膜等
三氧化二鉻（Cr2O3）顆粒

三氧化二鉻（Cr2O3）顆粒

化學式：
Cr2O3
規格：
1-3 mm
熔點：
2275 ℃
蒸發源：
E
折射率：
2.1
透明波段：
600-8000nm
用途：
粘接促進材料，塑料基片鍍膜?彩色/防曬鍍膜
氧化鎂（MgO）顆粒

氧化鎂（MgO）顆粒

化學式：
MgO
規格：
1-3/3-5 mm
熔點：
2852 ℃
蒸發源：
E,B（W,Ta)
折射率：
1.7
透明波段：
200-8000nm
用途：
激光鍍膜，粘接促進材料等
氧化硅（SiO）顆粒

氧化硅（SiO）顆粒

化學式：
SiO
規格：
1-2/2-4 mm
熔點：
1700 ℃
蒸發源：
B（W,Ta,Mo)
折射率：
1.8-1.9
透明波段：
400-9000nm
用途：
分束鏡，彩色/防曬鍍膜等
一氧化鈦（TiO）顆粒

一氧化鈦（TiO）顆粒

化學式：
TiO
規格：
1-3/3-5 mm
熔點：
1750 ℃
蒸發源：
RE,RS
折射率：
1.9-2.3
透明波段：
400-12000nm
用途：
三氧化二釔（Y2O3）顆粒

三氧化二釔（Y2O3）顆粒

化學式：
Y2O3
規格：
1-3/3-5 mm
熔點：
2410 ℃
蒸發源：
E
折射率：
1.87
透明波段：
300-12000nm
用途：
三氧化二鈦 （Ti2O3）顆粒

三氧化二鈦 （Ti2O3）顆粒

化學式：
Ti2O3
規格：
1-3 mm
熔點：
2130 ℃
蒸發源：
折射率：
1.9-2.3
透明波段：
400-12000nm
用途：
二氧化錫（SnO2）顆粒

二氧化錫（SnO2）顆粒

化學式：
SnO2
規格：
1-3 mm
熔點：
1127 ℃
蒸發源：
E,B（W)
折射率：
2.0-2.1
透明波段：
用途：
氧化鋅（ZnO）顆粒

氧化鋅（ZnO）顆粒

化學式：
ZnO
規格：
1-3 mm
熔點：
1975 ℃
蒸發源：
E,B（W,Mo)
折射率：
2.1
透明波段：
350-20000nm
用途：
三氧化二銻（Sb?O?）顆粒

三氧化二銻（Sb?O?）顆粒

化學式：
Sb?O?
規格：
1-3 mm
熔點：
656 ℃
蒸發源：
B（Ta)
折射率：
2.3
透明波段：
300-1000nm
用途：
氟化鎂（MgF? ）顆粒

氟化鎂（MgF? ）顆粒

化學式：
MgF?
規格：
1-2/1-3 mm
熔點：
1266 ℃
蒸發源：
B（W,Ta,Mo)
折射率：
1.38
透明波段：
110-10000nm
用途：
增透膜,多層膜,濾光片，分光器
三氟化鈰（CeF3）顆粒

三氟化鈰（CeF3）顆粒

化學式：
CeF3
規格：
1-3 mm
熔點：
1460 ℃
蒸發源：
E,B(W)
折射率：
1.63
透明波段：
300-500nm
用途：
保護膜
氟化鈣（CaF2）顆粒

氟化鈣（CaF2）顆粒

化學式：
CaF2
規格：
1-3 mm
熔點：
1360 ℃
蒸發源：
B（W,Ta,Mo)
折射率：
1.23-1.46
透明波段：
150-12000nm
用途：
增透膜，偏光鏡
氟化鐿（YbF3）顆粒

氟化鐿（YbF3）顆粒

化學式：
YbF3
規格：
mm
熔點：
1157 ℃
蒸發源：
E
折射率：
1.52
透明波段：
220-12000nm
用途：
增透膜，熱反射膜/介質膜，?偏光鏡，分束鏡，激光鍍膜
氟化釔（YF3）顆粒

氟化釔（YF3）顆粒

化學式：
YF3
規格：
1-3/3-5 mm
熔點：
1387 ℃
蒸發源：
折射率：
1.59
透明波段：
220-14000nm
用途：
增透膜，偏光鏡，分束鏡，?激光鍍膜
六氟鋁酸鈉（Na?AlF?）顆粒

六氟鋁酸鈉（Na?AlF?）顆粒

化學式：
Na?AlF?
規格：
1-8 mm
熔點：
1000 ℃
蒸發源：
B（Ta,Mo)
折射率：
1.32-1.35
透明波段：
200-14000nm
用途：
窄帶濾光片，紫外膜
氟化鋁（AlF?）顆粒

氟化鋁（AlF?）顆粒

化學式：
AlF?
規格：
1-4 mm
熔點：
900 ℃
蒸發源：
B
折射率：
1.38
透明波段：
200-20000nm
用途：
增透膜
氟化鑭（LaF?）粉末

氟化鑭（LaF?）粉末

化學式：
LaF?
規格：
1-3 mm
熔點：
1490 ℃
蒸發源：
E,B(W,Mo)
折射率：
1.55
透明波段：
200-12000nm
用途：
增透膜，介質鏡，二向色濾光片?偏光鏡
氟化釹（NdF?）顆粒

氟化釹（NdF?）顆粒

化學式：
NdF?
規格：
1-4 mm
熔點：
1410 ℃
蒸發源：
B（Ta,Mo)
折射率：
1.61
透明波段：
220-6000nm
用途：
增透膜，偏光鏡，分束鏡，?激光鍍膜
硫化鋅（ZnS）顆粒

硫化鋅（ZnS）顆粒

化學式：
ZnS
規格：
mm
熔點：
1900 ℃
蒸發源：
B（Ta,Mo)
折射率：
2.22
透明波段：
400-14000nm
用途：
減反射膜，熱反射膜，?二向濾光片，偏光片等
銅（Cu）坩堝

銅（Cu）坩堝

化學式：
Cu
純度：
99.99%
熔點：
1084 ℃
密度：
8.96 g/cm3
規格形狀：
坩堝
鉬（Mo）坩堝

鉬（Mo）坩堝

化學式：
Mo
純度：
99.50%~99.99%
熔點：
2630 ℃
密度：
10.22 g/cm3
規格形狀：
坩堝、蒸發舟
鎢（W）坩堝

鎢（W）坩堝

化學式：
W
純度：
99.50%~99.99%
熔點：
3407 ℃
密度：
19.35 g/cm3
規格形狀：
坩堝、蒸發舟、燈絲
鉭（Ta）坩堝

鉭（Ta）坩堝

化學式：
Ta
純度：
99.50%~99.99%
熔點：
2996 ℃
密度：
16.65 g/cm3
規格形狀：
坩堝、錐臺
碳（C）坩堝

碳（C）坩堝

化學式：
C
純度：
99.99%
熔點：
3850 ℃
密度：
2.26 g/cm3
規格形狀：
坩堝
鈮（Nb）坩堝

鈮（Nb）坩堝

化學式：
Nb
純度：
99.50%~99.99%
熔點：
2468 ℃
密度：
8.57 g/cm3
規格形狀：
坩堝、錐臺
氧化鋁（Al?O?）坩堝

氧化鋁（Al?O?）坩堝

化學式：
Al?O?
純度：
99.50%
熔點：
2020 ℃
密度：
3.98 g/cm3
規格形狀：
坩堝
氮化硼（BN）坩堝

氮化硼（BN）坩堝

化學式：
BN
純度：
99.50%
熔點：
3000 ℃
密度：
2.80 - 3.20 g/cm3
規格形狀：
坩堝
二氧化硅（SiO?）坩堝

二氧化硅（SiO?）坩堝

化學式：
SiO?
純度：
99.99%
熔點：
1710 ℃
密度：
2.32 g/cm3
規格形狀：
坩堝
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