鉭靶材制備方法及應用介紹

鉭靶材與其原材料具有相同的特性。鉭是一種稀有、堅硬、藍灰色、具有高度耐腐蝕性的難熔金屬之一。鉭的熔點為2980℃，密度為16.68g/cm3。鉭具有熔點高、蒸汽壓低、冷加工性能好、化學穩定性高、抗液態金屬腐蝕能力強、表面氧化膜介電常數大等一系列優異性能，在電子、冶金、鋼鐵、化工、硬質合金、原子能、超導技術、汽車電子、航空航天、醫療衛生和科學研究等高新技術領域有重要應用。

鉭靶材特征
鉭靶材形狀：平面靶 旋轉靶 異型定制
鉭靶材純度：3N5, 4N
鉭靶材尺寸：按圖紙加工或其他者定制
我們還可以提供鉭絲、鉭粒、鉭片、鉭粉等

鉭靶材制備工藝
采用鈉熱還原法生產的鉭粉,鉭粉的松裝密度為1.8-2.6(g/cm3) ,粒徑為2-3微米。將鉭粉在乳膠包套中進行冷等靜壓成型，冷等靜壓成型的壓力大于200MPa，保壓時間大于20min，得到鉭坯。

將鉭坯進行燒結，燒結的真空度大于1*10-2MPa，溫度大于2400°C，保溫時間大于1.5h。燒結得到的鉭坯的密度15.4g/cm3，純度99.99%。

燒結得到的鉭坯進行軋制，軋制的總加工率為30%-60%。將后進行熱處理，熱處理的溫度為鉭坯熔點的25%-45%，最終得到鉭靶材。

該制備方法是通過粉末冶金的方法制得了鉭靶材加工坯料，其優點是內部組織細小均勻，并得到了無織構的內部組織；再通過壓力加工工藝與熱處理工藝，獲得了細小且均勻一致的內部組織，得到了滿足高端濺射機臺使用的鉭靶材要求。下圖是鈮濺射靶材典型的顯微金相檢測圖片，平均粒徑<100um。

鉭靶材應用
將其與銅背靶進行焊接，然后進行半導體或光學濺射，將鉭原子以氧化物形成淀積在基板材料上，實現濺射鍍膜；鉭靶材主要應用于半導體鍍膜、光學鍍膜等行業。在半導體工業中，目前主要使用金屬(Ta)通過物理氣相沉積法(PVD)鍍膜并形成阻擋層作為靶材。

鉭的其它應用
電容器
每年消耗的鉭約有一半用于電子工業，主要用作電容器的粉末和電線。鉭電容器在電信、數據存儲和植入式醫療設備等空間敏感型高端應用中受到青睞。

半導體
使用物理氣相沉積（PVD）工藝，將鉭濺射靶材“濺射”到半導體襯底上，形成薄膜擴散屏障以保護銅互連。鉭濺射靶材用于各種其他產品，包括磁性存儲介質、噴墨打印機頭和平板顯示器。

發動機渦輪葉片
該金屬的高熔點和耐腐蝕性使其適用于合金化應用。鉭用于鎳基高溫合金，其主要應用是飛機發動機和陸基燃氣輪機的渦輪葉片。

化學加工設備
鉭的高耐腐蝕性和耐高溫性使該金屬成為化學和制藥行業中容器、管道、閥門和熱交換器襯里的理想結構材料。

鉭靶材合金類型
除鉭靶材外，我們還可以提供鉭硅合金、鉭鋁合金、鉭鎢合金、鎳鉭合金、鈷鋯鉭合金、氮化鉭 、碳化鉭、硼化鉭、五氧化二鉭等濺射靶材。

感謝您閱讀鉭濺射靶材制備方法及應用介紹。 希望您在閱讀本文后能夠對鉭濺射靶材有更好的理解。 如果您想了解更多關于金屬靶材的信息，請收藏我們的網站鑫康新材料https://www.xk-materials.cn/。

[免責聲明]本站文章部分為原創，其余僅做網絡公開資料的翻譯、歸納和整理，不屬于商業用途，僅用于讀者信息分享，供讀者學習參考，不對文章內容的真實性、合法性、準確性、有效性、完整性等提供保證及負責，且不對讀者提供任何投資及應用建議。本站尊重知識產權，因整理資料所需，文中引用部分有來源于第三方公開的數據、圖片等內容的，如有版權的則其所屬的知識產權歸屬原作者，本站文章凡有引用的內容均在文末標注了原文出處或者原作者，若版權所有者認為文章涉嫌侵權或其他問題，請聯系我方（聯系電話：0731-86393472）及時處理。本站提供技術方面的文章不用于商業僅供大家學習參考，力求數據嚴謹準確，但因受時間及人力限制，文章內容難免有所紕漏，如有重大失誤失實，敬請不吝賜教批評指正。本站原創文章版權歸本網站所有，轉載請聯系本站，本站擁有對此聲明的最終解釋權。