鈮濺射靶材料純度可達99.95%以上，晶粒尺寸小，再結晶組織好，三軸一致性好。作為陰極濺射靶材，它所形成的氧化膜質量均勻，不會與空氣中的其他物質發生反應，具有持久的保護作用。

鐵靶材是由高純鐵金屬組成的金屬固體靶材。它是有光澤的銀白色金屬,在真空下蒸發，在半導體、磁性存儲介質和燃料電池的生產中作為鍍膜涂層。

銅靶材是真空鍍膜行業中優良的濺射材料。由于高純銅材料具有許多優良性能，銅靶已廣泛應用于電子、通信、超導、航空航天等前沿領域。

由于金屬材料的高導電性，能很好的傳輸電流，眾多金屬元素如銅、鋁、金、銀、鈦、鉭、鎢等以及它們的合金，已在半導體器件中得到了大量應用，詳細的半導體器件金屬薄膜保護涂層方案點擊查看。

鈷靶材具有與金屬鈷相同的性質，是一種表面銀白色鐵磁性金屬。高純度的鈷用來作為先進電子元件的靶材，還廣泛用于磁性材料、超級合金的制造。

鎳靶材有多種形式、純度、尺寸和價格可供選擇。鎳濺射靶材由高純鎳金屬組成。鎳靶材用于薄膜沉積、LED和光伏器件、與其他光學信息存儲空間行業等行業，有著良好的應用前景。

裂紋形成通常發生在陶瓷濺射靶材和脆性材料濺射靶材中。一般來說，輕微的裂紋不會對鍍膜生產產生很大的影響。

用于裝飾性的薄膜主要是指手機、手表、眼鏡、衛浴潔具、五金配件等產品的表面膜層，它美化了色彩，具有耐磨、耐腐蝕的功能。用于裝飾鍍膜的靶材主要有鉻濺射靶材、鈦濺射靶材、鋯濺射靶材、鎳濺射靶材、鎢濺射靶材、鈦鋁濺射靶材等。

為了保證大面積薄膜的均勻性，提高生產效率和降低成本，濺射技術越來越多地用于制備平板顯示薄膜。平板顯示器鍍膜用濺射靶材主要有鉻Cr濺射靶材、銅Cu濺射靶材和ITO濺射靶材等。

靶材的相對密度應在98%以上，粉末冶金靶材應在97%以滿足生產使用。相對密度高、孔隙少的靶材具有良好的導熱性。濺射靶材表面的熱量很容易快速傳遞到靶材或襯板內表面的冷卻水中，保證了成膜過程的穩定性。

靶材形狀、純度、密度、孔隙率、晶粒尺寸和結合質量對大面積鍍膜的質量和濺射率有很大影響。

靶材的形狀、純度、密度、孔隙率、晶粒尺寸和質量極大地影響膜層質量和濺射速率。優質的靶材可以保證良好的薄膜質量，延長Low-E產品的生命周期。今天，我們分享靶材純度和材料均勻性對大面積鍍膜的影響。

太陽能主要用于將太陽能轉化為熱能和電能。用于太陽能電池鍍膜的濺射靶材主要有AZO濺射靶材、ZnO濺射靶材、ZnAl濺射靶材、Mo濺射靶材、CdS濺射靶材、CuInGaSe濺射靶材。

濺射靶材分為面板和背板。根據材料的不同，濺射靶材背板也有所不同。目前常見的濺射靶材背板材料主要有無氧銅、鉬、不銹鋼管、銦等背板材料。

用于屏蔽濺射鍍膜層的濺射靶材有哪些？本文講到的有以下幾種，它們包括銅、鉻、銀、金、不銹鋼、鋁、二氧化硅靶材等。